株式会社エバテック

研磨装置および研磨加工

御要望に応じた研磨装置の設計／製造／販売致します。

研磨機門型

CF-1100

PW-1000

PW-1900

Surface of ITO substrate
before polishing process (1um angle)

Ra　 38.85Å
P-V 335.4Å

Surface of ITO substrate
after polishing process (1um angle)

Ra 　9.612Å
P-V 69.16Å

Surface of ITO substrate
before polishing process (5um angle)

Ra 　37.36Å
P-V 360.7Å

Surface of ITO substrate
after polishing process (5um angle)

Ra 　10.90Å
P-V 272.9Å